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MPA/GMA双重表面修饰量子点制备及与SU-8光刻胶的相容性研究
更新时间：2026-05-30

    • MPA/GMA双重表面修饰量子点制备及与SU-8光刻胶的相容性研究

    • Preparation of MPA/GMA Dual Surface-Modified Quantum Dots and a Study of Their Compatibility with SU-8 Photoresist

    • 发光学报   2026年 页码：1-14

    • DOI：10.37188/CJL.20260169    

      中图分类号： TQ65;TB383;O647.2
    • CSTR：32170.14.CJL.20260169    

    • 网络首发：2026-05-30，

    移动端阅览

  • 杨育霖,谢莹莹,陈结峰等.MPA/GMA双重表面修饰量子点制备及与SU-8光刻胶的相容性研究[J].发光学报, DOI：10.37188/CJL.20260169 CSTR： 32170.14.CJL.20260169.

    YANG Yulin,XIE Yingying,CHEN Jiefeng,et al.Preparation of MPA/GMA Dual Surface-Modified Quantum Dots and a Study of Their Compatibility with SU-8 Photoresist[J].Chinese Journal of Luminescence, DOI：10.37188/CJL.20260169 CSTR： 32170.14.CJL.20260169.

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