Zur Lösung des Problems der Grenzflächenverträglichkeit zwischen Quantenpunkten (QDs) und dem SU-8-Photolack schlägt diese Studie eine zweistufige Oberflächenmodifikationsstrategie vor, die Mercaptopropionsäure (MPA) und die Ringöffnungsesterifizierung von Glycidylmethacrylat (GMA) umfasst. Erfolgreich wurden polymerisierbare Doppelbindungen auf der Oberfläche der Quantenpunkte eingeführt, um GMA-MPA-QDs zu erhalten. Multidimensionale Charakterisierungsmethoden (FTIR, XPS, ICP-OES usw.) bestätigten die Entwicklung der Oberflächenfunktionalgruppen von OA über MPA bis hin zu GMA sowie die Integrität des Zn-S-Kerngerüsts. Die kinetische Analyse zeigte, dass trotz der durch die Einführung makromolekularer Kettenabschnitte verursachten Störung der Oberflächenmikroumgebung der Photolumineszenz-Quantenausbeute (PLQY) nur geringfügig gesunken ist und eine Erhaltungsrate von 86,8 % erreicht wurde. Die modifizierten GMA-MPA-QDs lösten effektiv das Problem der mikrometergroßen Agglomeration von QDs im SU-8-Photolack, wobei die zusammengesetzte Lösung nach 90 Tagen Stehen transparent und homogen blieb, ohne Ablagerungen. Darüber hinaus zeigte das Verbundsystem eine hervorragende Resistenz gegen thermische Auslöschung und ist mit Standard-Photolithografieprozessen kompatibel, wodurch erfolgreich klar abgegrenzte, gleichmäßig fluoreszierende strukturierte Muster hergestellt wurden, die die Material- und Prozessbasis für hochpräzise photolithografische Anwendungen von Quantenpunkten schaffen.

Quantenpunkte;Oberflächenmodifikation;Ligandenaustausch;Glycidylmethacrylat;SU-8-Photolack