Pour résoudre le problème de compatibilité d'interface entre les points quantiques (QDs) et la résine photosensible SU-8, cette étude propose une stratégie de modification de surface en deux étapes incluant l'échange par l'acide mercaptopropionique (MPA) et la réaction d'ouverture de cycle d'ester de la glycidyl méthacrylate (GMA), réussissant à introduire des doubles liaisons polymérisables à la surface des points quantiques pour obtenir des GMA-MPA-QDs. Une caractérisation multidimensionnelle (FTIR, XPS, ICP-OES, etc.) a confirmé l'évolution des groupes fonctionnels de surface de OA à MPA puis à GMA ainsi que l'intégrité du squelette Zn-S. L'analyse cinétique indique que bien que l'introduction de segments macromoléculaires cause une légère perturbation de l’environnement de surface entraînant une légère baisse du rendement quantique de photoluminescence (PLQY), son taux de conservation reste élevé à 86,8 %. Les GMA-MPA-QDs modifiés ont efficacement résolu le problème d'agglomération microscopique des QDs dans la résine SU-8, la solution composite étant restée uniformément transparente sans sédimentation après 90 jours de repos. De plus, ce système composite a démontré une excellente résistance à l'extinction thermique, compatibilité avec les procédés photolithographiques standards, permettant la fabrication de structures à motifs avec des bords nets et une fluorescence uniforme, posant ainsi les bases matérielles et procédurales pour l'application photolithographique de haute précision des points quantiques.

points quantiques;modification de surface;échange de ligands;glycidyl méthacrylate;résine photosensible SU-8