Para abordar el problema de compatibilidad en la interfaz entre los puntos cuánticos (QDs) y la resina fotosensible SU-8, este estudio propone una estrategia de modificación superficial en dos pasos que incluye el intercambio con ácido mercaptopropiónico (MPA) y la esterificación por apertura de anillo de glicidil metacrilato (GMA), logrando introducir enlaces dobles polimerizables en la superficie de los puntos cuánticos para obtener GMA-MPA-QDs. La caracterización multidimensional (FTIR, XPS, ICP-OES, etc.) confirmó la evolución de los grupos funcionales superficiales desde OA a MPA y luego a GMA, así como la integridad del esqueleto central Zn-S. El análisis cinético mostró que aunque la introducción de segmentos macromoleculares causó una ligera perturbación del microambiente superficial que resultó en una leve disminución del rendimiento cuántico de la fotoluminiscencia (PLQY), la retención seguía siendo alta, del 86,8 %. Los GMA-MPA-QDs modificados resolvieron eficazmente el problema de aglomeración a escala micrométrica de los QDs en la resina SU-8, con la mezcla compuesta permaneciendo uniforme, transparente y sin sedimentación después de 90 días. Además, este sistema compuesto mostró una excelente capacidad contra el apagamiento térmico y es compatible con los procesos estándar de fotolitografía, logrando producir estructuras con bordes nítidos y fluorescencia uniforme, estableciendo la base de materiales y procesos para aplicaciones de fotolitografía de alta precisión en puntos cuánticos.

puntos cuánticos;modificación de superficie;intercambio de ligandos;glicidil metacrilato;resina fotosensible SU-8