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基于N-苯基马来酰亚胺改性的量子点光刻胶制备色转换像素化薄膜
更新时间：2025-01-09
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    • 基于N-苯基马来酰亚胺改性的量子点光刻胶制备色转换像素化薄膜

      增强出版

    • 31Quantum dot photoresists Quantum Dot Photoresists for Pixelated Color Conversion Films Based on N-Phenylmaleimide Modification

    • 发光学报   2025年 页码：1-8

    • DOI：10.37188/CJL.20240317    

      中图分类号：
    • CSTR：32170.14.CJL.20240317    

    • 网络出版日期：2025-01-09，

    移动端阅览

  • 蒋博瑞, 宋博翔, 陈恩果, 等. 基于N-苯基马来酰亚胺改性的量子点光刻胶制备色转换像素化薄膜[J/OL]. 发光学报, 2025,1-8. DOI： 10.37188/CJL.20240317. CSTR： 32170.14.CJL.20240317.

    JIANG BORUI, SONG BOXIANG, CHEN ENGUO, et al. 31Quantum dot photoresists Quantum Dot Photoresists for Pixelated Color Conversion Films Based on N-Phenylmaleimide Modification. [J/OL]. Chinese journal of luminescence, 2025, 1-8. DOI： 10.37188/CJL.20240317. CSTR： 32170.14.CJL.20240317.

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