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基于N-苯基马来酰亚胺改性的量子点光刻胶制备色转换像素化薄膜
发光产业及技术前沿 | 更新时间:2025-03-24
    • 基于N-苯基马来酰亚胺改性的量子点光刻胶制备色转换像素化薄膜

      增强出版
    • Quantum Dot Photoresists for Pixelated Color Conversion Films Based on N-Phenylmaleimide Modification

    • 在微型发光二极管领域,研究人员开发了一种新型光刻胶,通过N-苯基马来酰亚胺侧链改性丙烯酸树脂,提高了量子点分散性,为Micro-LED全彩化应用提供解决方案。
    • 发光学报   2025年46卷第3期 页码:536-544
    • DOI:10.37188/CJL.20240317    

      中图分类号: O482.31
    • CSTR:32170. 14. CJL. 20240317    
    • 收稿日期:2024-12-04

      修回日期:2024-12-26

      纸质出版日期:2025-03-25

    移动端阅览

  • 蒋博瑞,宋博翔,陈恩果等.基于N-苯基马来酰亚胺改性的量子点光刻胶制备色转换像素化薄膜[J].发光学报,2025,46(03):536-544. DOI: 10.37188/CJL.20240317. CSTR: 32170. 14. CJL. 20240317.

    JIANG Borui,SONG Boxiang,CHEN Enguo,et al.Quantum Dot Photoresists for Pixelated Color Conversion Films Based on N-Phenylmaleimide Modification[J].Chinese Journal of Luminescence,2025,46(03):536-544. DOI: 10.37188/CJL.20240317. CSTR: 32170. 14. CJL. 20240317.

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