La fotolitografía es una solución confiable para preparar películas de conversión de color pixeladas para micro-LEDs (Micro-LED), pero presenta desafíos de compatibilidad entre puntos cuánticos y resistencias fotolitográficas. Este trabajo desarrolla una resina acrílica modificada con cadenas laterales de N-fenilmaleimida (NPMI) para preparar resistencias fotolitográficas compatibles con puntos cuánticos. Los enlaces C–O en los grupos laterales forman enlaces de coordinación con los puntos cuánticos, pasivando defectos de superficie y mejorando la dispersión de los puntos cuánticos. La eficiencia cuántica de fotoluminiscencia (PLQY) de la solución resistiva alcanzó el 76.1% (rojo) y 43.4% (verde). El efecto de pasivación se mantiene en la película de conversión de color final, con PLQYs de 66.4% (verde) y 36.4% (rojo), y el tamaño mínimo de los patrones pixelados puede lograr una matriz rectangular de 10 μm × 10 μm. El método de modificación de la cadena lateral de la resina en este estudio proporciona una guía para desarrollar resistencias fotolitográficas compatibles con puntos cuánticos, ofreciendo una solución simple y factible para la comercialización a todo color de Micro-LED.

resistencias fotolitográficas de puntos cuánticos; conversión de color; modificación de resina; pixelación