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高增益GaN基PIN雪崩二极管的制备及p-GaN层载流子浓度的估算
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-09-15
    • 高增益GaN基PIN雪崩二极管的制备及p-GaN层载流子浓度的估算

    • Fabrication of High Gain GaN Based PIN Avalanche Diode and Estimation of p-GaN Layer Carrier Concentration

    • 发光学报   2020年41卷第6期 页码:707-713
    • DOI:10.3788/fgxb20204106.0707    

      中图分类号: TN36
    • 纸质出版日期:2020-6

      收稿日期:2020-3-18

      录用日期:2020-4-15

    扫 描 看 全 文

  • 曹子坤, 刘宗顺, 江德生, 等. 高增益GaN基PIN雪崩二极管的制备及p-GaN层载流子浓度的估算[J]. 发光学报, 2020,41(6):707-713. DOI: 10.3788/fgxb20204106.0707.

    Zi-kun CAO, Zong-shun LIU, De-sheng JIANG, et al. Fabrication of High Gain GaN Based PIN Avalanche Diode and Estimation of p-GaN Layer Carrier Concentration[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2020,41(6):707-713. DOI: 10.3788/fgxb20204106.0707.

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