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低维InP材料的表征和生长机理研究
材料合成及性能 | 更新时间:2024-07-10
    • 低维InP材料的表征和生长机理研究

      增强出版
    • Characterization and Growth Mechanisms of Low Dimensional InP Materials

    • Researchers have made significant progress in the field of semiconductor materials, successfully producing a large quantity of high-quality InP nanowires and nanopillars. The nanowires, with diameters between 30 and 65 nm and a film thickness of approximately 35 μm, and nanopillars, with diameters ranging from 550 to 850 nm and a film thickness of about 12 μm, were created using chemical vapor deposition and in-situ growth methods. The study also explored the growth mechanisms of the nanomaterials, with nanowires following the vapor-liquid-solid and nanopillars the solid-liquid-solid mechanism, offering new opportunities for the controlled preparation and large-scale production of InP nanomaterials.
    • 发光学报   2024年45卷第5期 页码:779-793
    • DOI:10.37188/CJL.20240026    

      中图分类号: O482.31
    • 纸质出版日期:2024-05-25

      收稿日期:2024-01-30

      修回日期:2024-02-20

    扫 描 看 全 文

  • 牛艳萍,马淑芳,董浩琰等.低维InP材料的表征和生长机理研究[J].发光学报,2024,45(05):779-793. DOI: 10.37188/CJL.20240026.

    NIU Yanping,MA Shufang,DONG Haoyan,et al.Characterization and Growth Mechanisms of Low Dimensional InP Materials[J].Chinese Journal of Luminescence,2024,45(05):779-793. DOI: 10.37188/CJL.20240026.

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