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新型二维SiO2结构及面内应变对其光电性质影响的第一性原理研究
理论计算及光谱分析 | 更新时间:2023-09-06
    • 新型二维SiO2结构及面内应变对其光电性质影响的第一性原理研究

      增强出版
    • A Novel Two-dimensional SiO2 Structure and Influence of In-plane Strain on Its Photoelectric Properties: First-principles Study

    • 发光学报   2023年44卷第8期 页码:1496-1504
    • DOI:10.37188/CJL.20230072    

      中图分类号: O482.31
    • 纸质出版日期:2023-08-05

      收稿日期:2023-03-24

      修回日期:2023-04-11

    扫 描 看 全 文

  • 刘雪婷,刘禹成,赵子昂等.新型二维SiO2结构及面内应变对其光电性质影响的第一性原理研究[J].发光学报,2023,44(08):1496-1504. DOI: 10.37188/CJL.20230072.

    LIU Xueting,LIU Yucheng,ZHAO Ziang,et al.A Novel Two-dimensional SiO2 Structure and Influence of In-plane Strain on Its Photoelectric Properties: First-principles Study[J].Chinese Journal of Luminescence,2023,44(08):1496-1504. DOI: 10.37188/CJL.20230072.

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