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高真空磁控溅射温度对Ga2O3微观结构及光学性能的影响
材料合成及性能 | 更新时间:2022-10-19
    • 高真空磁控溅射温度对Ga2O3微观结构及光学性能的影响

      增强出版
    • Effect of Sputtering Temperature on Microstructural and Optical Properties of Gallium Oxide Deposited by High-vacuum Magnetron Sputtering

    • 发光学报   2022年43卷第8期 页码:1236-1243
    • DOI:10.37188/CJL.20220131    

      中图分类号: TN304
    • 纸质出版日期:2022-08-05

      收稿日期:2022-04-11

      修回日期:2022-04-21

    扫 描 看 全 文

  • 赵晶晶,刘丽华,秦彬皓等.高真空磁控溅射温度对Ga2O3微观结构及光学性能的影响[J].发光学报,2022,43(08):1236-1243. DOI: 10.37188/CJL.20220131.

    ZHAO Jing-jing,LIU Li-hua,QIN Bin-hao,et al.Effect of Sputtering Temperature on Microstructural and Optical Properties of Gallium Oxide Deposited by High-vacuum Magnetron Sputtering[J].Chinese Journal of Luminescence,2022,43(08):1236-1243. DOI: 10.37188/CJL.20220131.

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相关作者

赵晶晶
刘丽华
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广东省科学院中乌焊接研究所
中国科学院大学 材料科学与光电工程研究中心
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发光学及应用国家重点实验室
闽江学院 物理与电子信息工程学院
福建工程学院 材料科学与工程学院
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