Numerical Calculation of Continuous Nd:YAG Laser-Annealing of Monocrystalline Silicon
发光学报2000年21卷第4期 页码:320-323
作者机构:
1. 厦门大学物理系
2. 白俄罗斯科学院电子学研究所
作者简介:
基金信息:
国家自然科学基金重大项目(69887002)
DOI:
中图分类号:O472.3
收稿:2000-10-20,
纸质出版:2000-11-30
稿件说明:
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傅仁武, 陈朝, Markevich M I. 单晶Si Nd:YAG激光连续退火的数值计算[J]. 发光学报, 2000,21(4): 320-323
FU Ren-wu, CHEN Chao, Markevich M I. Numerical Calculation of Continuous Nd:YAG Laser-Annealing of Monocrystalline Silicon[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2000,21(4): 320-323
傅仁武, 陈朝, Markevich M I. 单晶Si Nd:YAG激光连续退火的数值计算[J]. 发光学报, 2000,21(4): 320-323DOI:
FU Ren-wu, CHEN Chao, Markevich M I. Numerical Calculation of Continuous Nd:YAG Laser-Annealing of Monocrystalline Silicon[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2000,21(4): 320-323DOI: