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1.中国科学院半导体研究所 宽禁带半导体研发中心, 北京 100083
2.中国科学院大学 材料科学与光电技术学院, 北京 100049
[ "董 婧 楠,(2001-),女,山 西 长 治 人,硕士研究生,2023 年于太原理工大学获得学士学位,主要从事氮化物材料生长和器件制备的研究。E-mail: dongjingnan@semi.ac.cn" ]
[ "王军喜(1975-),男,陕西西安人,博士,研究员,2003年于中国科学院半导体研究所获得博士学位,主要从事Ⅲ族氮化物发光材料与器件的研究。 E-mail: jxwang@semi.ac.cn" ]
[ "魏同波(1978-),男,山东潍坊人,博士,研究员,2007年于中国科学院半导体研究所获得博士学位,主要从事宽禁带半导体材料生长及器件制备的研究。 E-mail: tbwei@semi.ac.cn" ]
收稿:2025-04-26,
修回:2025-05-11,
纸质出版:2025-10-25
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董婧楠,多亦威,羊建坤等.六方氮化硼的外延生长与器件应用[J].发光学报,2025,46(10):1798-1818.
DONG Jingnan,DUO Yiwei,YANG Jiankun,et al.Epitaxial Growth of Hexagonal Boron Nitride and Device Application[J].Chinese Journal of Luminescence,2025,46(10):1798-1818.
董婧楠,多亦威,羊建坤等.六方氮化硼的外延生长与器件应用[J].发光学报,2025,46(10):1798-1818. DOI: 10.37188/CJL.20250128. CSTR: 32170.14.CJL.20250128.
DONG Jingnan,DUO Yiwei,YANG Jiankun,et al.Epitaxial Growth of Hexagonal Boron Nitride and Device Application[J].Chinese Journal of Luminescence,2025,46(10):1798-1818. DOI: 10.37188/CJL.20250128. CSTR: 32170.14.CJL.20250128.
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