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芳香烃中位取代氟硼二吡咯的薄膜放大自发辐射稳定性研究
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • 芳香烃中位取代氟硼二吡咯的薄膜放大自发辐射稳定性研究

    • Stability of Amplified Spontaneous Emission of Meso Aromatic Substituted BODIPY Derivatives Films

    • 发光学报   2017年38卷第4期 页码:499-506
    • DOI:10.3788/fgxb20173804.0499    

      中图分类号: O432.1+2
    • 纸质出版日期:2017-4-5

      收稿日期:2016-10-5

      修回日期:2016-11-10

    扫 描 看 全 文

  • 吕晨曦, 张镭, 杨杨等. 芳香烃中位取代氟硼二吡咯的薄膜放大自发辐射稳定性研究[J]. 发光学报, 2017,38(4): 499-506 DOI: 10.3788/fgxb20173804.0499.

    LYU Chen-xi, ZHANG Lei, YANG Yang etc. Stability of Amplified Spontaneous Emission of Meso Aromatic Substituted BODIPY Derivatives Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2017,38(4): 499-506 DOI: 10.3788/fgxb20173804.0499.

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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发光学及应用国家重点实验室
南开大学 化学学院, 高分子化学研究所
华南理工大学 发光材料与器件国家重点实验室
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