您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
1310 nm垂直腔面发射激光器芯片制备技术的研究进展
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • 1310 nm垂直腔面发射激光器芯片制备技术的研究进展

    • Research Progress of 1310 nm VCSELs Chip Technology

    • 发光学报   2016年37卷第7期 页码:809-815
    • DOI:10.3788/fgxb20163707.0809    

      中图分类号: TN248.4
    • 纸质出版日期:2016-7-5

      收稿日期:2016-2-19

      修回日期:2016-3-29

    扫 描 看 全 文

  • 刘丽杰, 吴远大, 王玥等. 1310 nm垂直腔面发射激光器芯片制备技术的研究进展[J]. 发光学报, 2016,37(7): 809-815 DOI: 10.3788/fgxb20163707.0809.

    LIU Li-jie, WU Yuan-da, WANG Yue etc. Research Progress of 1310 nm VCSELs Chip Technology[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2016,37(7): 809-815 DOI: 10.3788/fgxb20163707.0809.

  •  
  •  

0

浏览量

41

下载量

2

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

暂无数据

相关作者

暂无数据

相关机构

暂无数据
0