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背照射和正照射p-i-n结构GaN紫外探测器的i-GaN和p-GaN厚度设计
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • 背照射和正照射p-i-n结构GaN紫外探测器的i-GaN和p-GaN厚度设计

    • Effects and Design of i-GaN and p-GaN Layer Thickness on The Back-illuminated and Front-illuminated GaN p-i-n Ultraviolet Photodetectors

    • 发光学报   2015年36卷第9期 页码:1034-1040
    • DOI:10.3788/fgxb20153609.1034    

      中图分类号: TN304.2
    • 纸质出版日期:2015-9-3

      收稿日期:2015-6-9

      修回日期:2015-7-22

    扫 描 看 全 文

  • 周梅, 李春燕, 赵德刚. 背照射和正照射p-i-n结构GaN紫外探测器的i-GaN和p-GaN厚度设计[J]. 发光学报, 2015,36(9): 1034-1040 DOI: 10.3788/fgxb20153609.1034.

    ZHOU Mei, LI Chun-yan, ZHAO De-gang. Effects and Design of i-GaN and p-GaN Layer Thickness on The Back-illuminated and Front-illuminated GaN p-i-n Ultraviolet Photodetectors[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2015,36(9): 1034-1040 DOI: 10.3788/fgxb20153609.1034.

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