联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像

蒋庆一; 陈春琳; 李杉; 陈英贺; 董官茞; 张帮翠; 高树林; 王建飞; 杨艳华

doi:10.37188/CJL.20250021

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联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像

发光学应用及交叉前沿 | 更新时间：2025-08-25

- 联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像
  增强出版
- Aggregation-induced Emission Properties and Latent Fingerprint Imaging of Biphenyl-based Schiff Base Compounds
- “最新研究发现，联苯基席夫碱化合物在潜指纹可视化领域具有应用潜力，为相关材料设计提供新思路。”
- 发光学报 2025年46卷第8期页码：1496-1506
- 作者机构：
  
  昆明学院化学化工学院云南省金属有机分子材料与器件重点实验室，云南昆明 650214
- 作者简介：
  
  [ "蒋庆一（1999-），女，黑龙江伊春人，硕士研究生，2022年于齐齐哈尔大学获得学士学位，主要从事有机压敏变色荧光材料的研究。 E-mail： 1147335789@qq.com" ]
  [ "王建飞（1987-），男，山西忻州人，博士，讲师，2015年于中国科学院大学获得博士学位，主要从事有机压敏变色荧光材料的研究。 E-mail： wang03507856284@126.com" ]
  [ "杨艳华（1989-），男，云南昆明人，博士，副教授，2019年于南京航空航天大学获得博士学位，主要从事有机压敏变色荧光材料的研究。 E-mail： yh_yangkmu@126.com" ]
- 基金信息：
  
  云南省“兴滇英才支持计划”青年人才专项项目(ZX20230278)
- DOI：10.37188/CJL.20250021
  中图分类号： O625.6;O626.4
- CSTR：32170.14.CJL.20250021
- 收稿：2025-02-04，
  
  修回：2025-02-15，
  
  纸质出版：2025-08-25
- 稿件说明：
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蒋庆一,陈春琳,李杉等.联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像[J].发光学报,2025,46(08):1496-1506.

JIANG Qingyi,CHEN Chunlin,LI Shan,et al.Aggregation-induced Emission Properties and Latent Fingerprint Imaging of Biphenyl-based Schiff Base Compounds[J].Chinese Journal of Luminescence,2025,46(08):1496-1506.
蒋庆一,陈春琳,李杉等.联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像[J].发光学报,2025,46(08):1496-1506. DOI： 10.37188/CJL.20250021. CSTR： 32170.14.CJL.20250021.

JIANG Qingyi,CHEN Chunlin,LI Shan,et al.Aggregation-induced Emission Properties and Latent Fingerprint Imaging of Biphenyl-based Schiff Base Compounds[J].Chinese Journal of Luminescence,2025,46(08):1496-1506. DOI： 10.37188/CJL.20250021. CSTR： 32170.14.CJL.20250021.

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