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近红外二区发光材料在脑成像中的研究进展
特邀报告 | 更新时间:2023-08-02
    • 近红外二区发光材料在脑成像中的研究进展

      增强出版
    • Design of NIR-Ⅱ Luminescent Materials and Applications in Brain Imaging

    • 发光学报   2023年44卷第7期 页码:1131-1148
    • DOI:10.37188/CJL.20230122    

      中图分类号: O482.31
    • 纸质出版日期:2023-07-05

      收稿日期:2023-05-08

      修回日期:2023-05-26

    扫 描 看 全 文

  • 薛东芝,王樱蕙,张洪杰.近红外二区发光材料在脑成像中的研究进展[J].发光学报,2023,44(07):1131-1148. DOI: 10.37188/CJL.20230122.

    XUE Dongzhi,WANG Yinghui,ZHANG Hongjie.Design of NIR-Ⅱ Luminescent Materials and Applications in Brain Imaging[J].Chinese Journal of Luminescence,2023,44(07):1131-1148. DOI: 10.37188/CJL.20230122.

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发光学报 | 机遇与挑战:近红外二区发光材料在脑成像中的应用

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相关作者

张松涛
王樱蕙
张洪杰
薛东芝
王樱蕙
张洪杰
王贵生
黎喆

相关机构

中国科学院长春应用化学研究所 稀土资源与利用国家重点实验室
中国科学院大学
清华大学 化学系
解放军总医院第三医学中心 放射诊断科, 北京 100039
北京邮电大学 电子工程学院, 安全生产智能监控北京市重点实验室, 北京 100876
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