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透明导电铟铋氧化物薄膜的制备及其性能
论文 | 更新时间:2020-08-12
    • 透明导电铟铋氧化物薄膜的制备及其性能

    • Fabrication and Characteristics of Transparent Conducting Bismuth-doped Thin Indium Oxide Film

    • 发光学报   2010年31卷第4期 页码:605-608
    • 中图分类号: TN383.1;O484.4
    • 纸质出版日期:2010-8-27

      网络出版日期:2010-8-27

      收稿日期:2010-1-20

      修回日期:2010-3-24

    扫 描 看 全 文

  • 田苗苗, 范 翊, 刘星元. 透明导电铟铋氧化物薄膜的制备及其性能[J]. 发光学报, 2010,31(4): 605-608 DOI:

    TIAN Miao-miao, FAN Yi, LIU Xing-yuan. Fabrication and Characteristics of Transparent Conducting Bismuth-doped Thin Indium Oxide Film[J]. 发光学报, 2010,31(4): 605-608 DOI:

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