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RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性
更新时间：2020-08-12

    • RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性

    • Structural and Photoluminescence Properties of Nd-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering

    • 发光学报   2008年29卷第5期 页码：856-860
    • 中图分类号： O484.1;O482.31

    • 收稿：2007-10-26，

      修回：2007-12-27，

      纸质出版：2008-09-20

    移动端阅览

  • 文军, 陈长乐. RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性[J]. 发光学报, 2008,29(5): 856-860 DOI：

    WEN Jun, CHEN Chang-le. Structural and Photoluminescence Properties of Nd-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2008,29(5): 856-860 DOI：

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相关机构

长春理工大学, 高功率半导体激光国家重点实验室
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 激发态物理重点实验室
西安近代化学研究所 含能材料全国重点实验室
河北省地质实验测试中心， 河北省矿产资源与生态环境监测重点实验室
天津大学化工学院 化学工程联合国家重点实验室
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