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RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性
更新时间:2020-08-12
    • RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性

    • Structural and Photoluminescence Properties of Nd-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering

    • 发光学报   2008年29卷第5期 页码:856-860
    • 中图分类号: O484.1;O482.31
    • 纸质出版日期:2008-9-20

      收稿日期:2007-10-26

      修回日期:2007-12-27

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  • 文军, 陈长乐. RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性[J]. 发光学报, 2008,29(5): 856-860 DOI:

    WEN Jun, CHEN Chang-le. Structural and Photoluminescence Properties of Nd-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2008,29(5): 856-860 DOI:

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相关作者

张振中
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相关机构

长春理工大学, 高功率半导体激光国家重点实验室
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 激发态物理重点实验室
西安近代化学研究所 含能材料全国重点实验室
河北省地质实验测试中心, 河北省矿产资源与生态环境监测重点实验室
天津大学化工学院 化学工程联合国家重点实验室
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