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新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究

    • Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide

    • 发光学报   2002年23卷第5期 页码:513-517
    • 中图分类号: TN144.1
    • 纸质出版日期:2002-9-20

      收稿日期:2002-6-20

      修回日期:2002-8-15

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  • 田景全, 姜德龙, 孙秀平, 富丽晨, 但唐仁, 李野, 卢耀华, 端木庆铎. 新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究[J]. 发光学报, 2002,23(5): 513-517 DOI:

    TIAN Jing-quan, JIANG De-long, SUN Xiu-ping, FU Li-chen, DAN Tang-ren, LI Ye, LU Yao-hua, DUANMU Qing-duo. Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2002,23(5): 513-517 DOI:

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