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预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响

器件制备及器件物理 | 更新时间：2020-08-12

- 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响封面论文增强出版
- Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films
- 发光学报 2015年 36卷第2期 (2015)
- 作者机构：
  
  南开大学电子信息与光学工程学院光电子薄膜与器件研究所,天津,300071;天津城建大学理学院应用物理系,天津,300084
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金(61076061)资助项目()
- DOI：10.3788/fgxb20153602.0192 中图分类号： O484.4
- 纸质出版日期：2015-2-3，
  
  网络出版日期：，
  
  收稿日期：2014-11-25，
  
  修回日期：2014-12-16，
  
  录用日期：
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引用本文
李光旻, 刘玮, 林舒平等. 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响[J]. 发光学报, 2015,36(2): 192-199

LI Guang-min, LIU Wei, LIN Shu-ping etc. Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2015,36(2): 192-199
李光旻, 刘玮, 林舒平等. 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响[J]. 发光学报, 2015,36(2): 192-199 DOI： 10.3788/fgxb20153602.0192.

LI Guang-min, LIU Wei, LIN Shu-ping etc. Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2015,36(2): 192-199 DOI： 10.3788/fgxb20153602.0192.

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