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预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响

    • Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films

    • 发光学报   2015年36卷第2期 页码:192-199
    • DOI:10.3788/fgxb20153602.0192    

      中图分类号: O484.4
    • 纸质出版日期:2015-2-3

      收稿日期:2014-11-25

      修回日期:2014-12-16

    扫 描 看 全 文

  • 李光旻, 刘玮, 林舒平等. 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响[J]. 发光学报, 2015,36(2): 192-199 DOI: 10.3788/fgxb20153602.0192.

    LI Guang-min, LIU Wei, LIN Shu-ping etc. Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2015,36(2): 192-199 DOI: 10.3788/fgxb20153602.0192.

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