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氧化锌基忆阻器件研究进展
特邀报告 | 更新时间:2026-09-12
    • 氧化锌基忆阻器件研究进展

      增强出版
    • Recent Progress in ZnO-based Memristive Devices

    • 发光学报   2025年46卷第5期 页码:753-769
    • DOI:10.37188/CJL.20240331    

      中图分类号: O472
    • CSTR:32170.14.CJL.20240331    
    • 收稿:2024-12-17,

      修回:2025-01-02,

      纸质出版:2025-05-25

    移动端阅览

  • 史佳娟,单旋宇,王中强等.氧化锌基忆阻器件研究进展[J].发光学报,2025,46(05):753-769. DOI: 10.37188/CJL.20240331. CSTR: 32170.14.CJL.20240331.

    SHI Jiajuan,SHAN Xuanyu,WANG Zhongqiang,et al.Recent Progress in ZnO-based Memristive Devices[J].Chinese Journal of Luminescence,2025,46(05):753-769. DOI: 10.37188/CJL.20240331. CSTR: 32170.14.CJL.20240331.

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相关作者

史佳娟
单旋宇
王中强
徐海阳
刘益春
苗印晖
石伟
秦旭

相关机构

东北师范大学,紫外光发射材料与技术教育部重点实验室
南京邮电大学 理学院
南京邮电大学 信息材料与纳米技术研究院, 柔性电子全国重点实验室, 类脑电子材料与器件江苏高校重点实验室
南京工业大学 柔性电子(未来技术)学院, 先进材料研究院, 柔性电子全国重点实验室
浙江大学 材料科学与工程学院, 硅及先进半导体材料全国重点实验室
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