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极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征
研究快报 | 更新时间：2024-03-04
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    • 极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征

      增强出版

    • MOCVD Epitaxial Growth and Characterization of Polar, Semipolar and Nonpolar InN Thin Films

    • 发光学报   2024年45卷第2期 页码：204-210

    • DOI：10.37188/CJL.20230303    

      中图分类号： O482.31

    • 纸质出版日期：2024-02-05，

      收稿日期：2023-11-29，

      修回日期：2023-12-17，

    扫 描 看 全 文

  • 赵见国,殷瑞,徐儒等.极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征[J].发光学报,2024,45(02):204-210. DOI： 10.37188/CJL.20230303.

    ZHAO Jianguo,YIN Rui,XU Ru,et al.MOCVD Epitaxial Growth and Characterization of Polar, Semipolar and Nonpolar InN Thin Films[J].Chinese Journal of Luminescence,2024,45(02):204-210. DOI： 10.37188/CJL.20230303.

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相关作者

常建华
刘斌
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王鹏程
徐华伟

相关机构

中山大学物理科学与工程技术学院
发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院 研究生院
中国科学院 激发态重点实验室 长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院 研究生院
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