射频溅射功率对AZO薄膜结构及 光电特性和热稳定性的影响

马晓翠; 叶家聪; 曹培江; 柳文军; 贾 芳; 朱德亮; 吕有明

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射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响
- Influence of Sputtering Power on the Structure, Optoelectronic Properties and Thermal Stability of ZnO ∶ Al Films
- 发光学报 2010年31卷第2期页码：235-238
- 作者机构：
  
  深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号： O472.3;O484.4
- 收稿：2009-11-25，
  
  修回：1900-1-2，
  
  网络首发：2010-04-30，
  
  纸质出版：2010-04-30
- 稿件说明：
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马晓翠, 叶家聪, 曹培江, 等. 射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响[J]. 发光学报, 2010,31(2):235-238.

MA Xiao-cui, YE Jia-cong, CAO Pei-jiang, et al. Influence of Sputtering Power on the Structure, Optoelectronic Properties and Thermal Stability of ZnO ∶ Al Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2010, 31(2): 235-238.
马晓翠, 叶家聪, 曹培江, 等. 射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响[J]. 发光学报, 2010,31(2):235-238. DOI：

MA Xiao-cui, YE Jia-cong, CAO Pei-jiang, et al. Influence of Sputtering Power on the Structure, Optoelectronic Properties and Thermal Stability of ZnO ∶ Al Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2010, 31(2): 235-238. DOI：

摘要

采用射频磁控溅射法

在玻璃基片上制备了ZnO ∶ Al (AZO)透明导电薄膜。用X射线衍射(XRD)仪、紫外-可见分光光度计、方块电阻测试仪和台阶仪对不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜的结晶、光学、电学性能、沉积速率以及热稳定性进行了研究。研究结果表明:不同溅射功率下沉积的AZO薄膜具有六角纤锌矿结构

均呈

轴择优取向;(002)衍射峰强和薄膜的结晶度随溅射功率的提高逐渐增强;随溅射功率的提高

AZO薄膜的透射率有所下降

但在可见光(380~780 nm)范围内平均透射率仍＞80%; 薄膜的方块电阻随溅射功率的增加逐渐减小;功率为160~200 W时

薄膜的热稳定性最好

升温前后方块电阻变化率为13%。

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关键词

Keywords

references

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