您当前的位置：
首页 >
文章列表页 >
热退火对SiO2：Er薄膜发光特性的影响
材料合成及性能 | 更新时间：2020-08-11

    • 热退火对SiO2：Er薄膜发光特性的影响

    • The Effect of Heat Treatment on the Optical Properties of SiO2：Er3+ Film

    • 发光学报   2008年29卷第1期 页码：97-101
    • 中图分类号： O482.31

    • 收稿：2007-08-25，

      修回：2007-11-24，

      纸质出版：2008-01-20

    移动端阅览

  • 屠炜巍, 刘益春, 刘玉学, 徐长山, 慕日祥, 邵长路. 热退火对SiO<sub>2</sub>：Er薄膜发光特性的影响[J]. 发光学报, 2008,29(1): 97-101 DOI：

    TU Wei-wei, LIU Yi-chun, LIU Yu-xue, XU Chang-shan, MU Ri-xiang, SHAO Chang-lu. The Effect of Heat Treatment on the Optical Properties of SiO<sub>2</sub>：Er<sup>3+</sup> Film[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2008,29(1): 97-101 DOI：

  •  
  •  
icon
试读结束，您可以激活您的VIP账号继续阅读。
去激活 >
icon
试读结束，您可以通过登录账户，到个人中心，购买VIP会员阅读全文。
已是VIP会员？
去登录 >

0

浏览量

178

下载量

0

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

Tb3+→Sm3+能量传递调控的多色应力发光材料及其动态防伪应用
NaYF4∶Yb,Tm@CsPbBr3异质结构制备与发光性能
Cs2ZrCl6∶Pt4+/Ln3+的蓝光激发近红外发光及机理
Er3+/Yb3+共掺杂Y2MoO6上转换发光性质及Judd-Ofelt理论计算
基于Eu/Tb双模发光特性及光学信息加密与识别

相关作者

岳梦迪
贾振威
贾云尧
孔勇发
许京军
孟京
武莉
王娜晴

相关机构

南开大学 物理科学学院
福建师范大学 物理与能源学院
大连海事大学 理学院
西安航空学院 航空材料与新能源学院
西安邮电大学 电子工程学院
0