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氧分压对磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及光学特性的影响
研究论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 氧分压对磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及光学特性的影响

    • Influence of Oxygen Partial Pressure on the Structural and Optical Properties of ZnO Films Deposited by Radio-frequency Magnetron Sputtering

    • 发光学报   2007年28卷第5期 页码：730-735
    • 中图分类号： O484.1;O484.4+1

    • 收稿：2006-12-25，

      修回：2007-4-18，

      纸质出版：2007-09-20

    移动端阅览

  • 徐小丽, 马书懿, 陈彦, 魏晋军, 张国恒, 孙小菁. 氧分压对磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及光学特性的影响[J]. 发光学报, 2007,28(5): 730-735 DOI：

    XU Xiao-li, MA Shu-yi, CHEN Yan, WEI Jin-jun, ZHANG Guo-heng, SUN Xiao-jing. Influence of Oxygen Partial Pressure on the Structural and Optical Properties of ZnO Films Deposited by Radio-frequency Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2007,28(5): 730-735 DOI：

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太原理工大学 物理与光电工程学院
太原工业学院 理学系
华南理工大学 材料科学与工程学院, 高分子光电材料与器件研究所, 发光材料与器件国家重点实验室
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