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柔性ITO衬底电化学沉积制备Cu/Cu2O薄膜
研究论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 柔性ITO衬底电化学沉积制备Cu/Cu2O薄膜

    • Preparation of Cu/Cu2O Thin Films on Flexible ITO Substrates via Electrochemical Deposition

    • 发光学报   2007年28卷第5期 页码：798-801
    • 中图分类号： O484.1

    • 收稿：2007-01-10，

      修回：2007-3-16，

      纸质出版：2007-09-20

    移动端阅览

  • 董林, 马莹, 李豪, 贾晓林. 柔性ITO衬底电化学沉积制备Cu/Cu<sub>2</sub>O薄膜[J]. 发光学报, 2007,28(5): 798-801 DOI：

    DONG Lin, MA Ying, LI Hao, JIA Xiao-lin. Preparation of Cu/Cu<SUB>2</SUB>O Thin Films on Flexible ITO Substrates via Electrochemical Deposition[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2007,28(5): 798-801 DOI：

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南京邮电大学 有机电子与信息显示国家重点实验室培育基地信息材料与纳米技术研究院
哈尔滨工业大学 材料科学与工程学院
青岛科技大学 材料科学与工程学院
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