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常压MOCVD生长ZnO薄膜及其性质
研究论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 常压MOCVD生长ZnO薄膜及其性质

    • Growth and Characterization of ZnO Films Grown by Atmospheric MOCVD

    • 发光学报   2004年25卷第4期 页码：393-395
    • 中图分类号： O472.3

    • 收稿：2003-03-17，

      修回：2003-9-18，

      纸质出版：2004-07-20

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  • 王立, 莫春兰, 熊传兵, 蒲勇, 陈玉凤, 彭绍琴, 江风益. 常压MOCVD生长ZnO薄膜及其性质[J]. 发光学报, 2004,25(4): 393-395 DOI：

    WANG Li, MO Chun-lan, XIONG Chuan-bing, PU Yong, CHEN Yu-feng, PENG Shao-qin, JIANG Feng-yi. Growth and Characterization of ZnO Films Grown by Atmospheric MOCVD[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2004,25(4): 393-395 DOI：

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相关作者

戴江南
王立
方文卿
蒲勇
莫春兰
熊传兵
郑畅达
刘卫华

相关机构

南昌大学 教育部发光材料与器件工程研究中心
华南师范大学 光电子材料与技术研究所
深圳大学 材料科学与工程学院
中国科学院 激发态物理重点实验室 长春光学精密机械与物理研究所
南昌大学, 教育部发光材料与器件工程研究中心
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