磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系

李俊杰; 王欣; 卞海蛟; 郑伟涛; 吕宪义; 金曾孙; 孙龙

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磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系

研究论文 | 更新时间：2020-08-11

- 磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系
- Relations of Substrate Bias and Adhesion, Roughness of Carbon Nitride Films Synthesized by Magnetron Sputtering
- 发光学报 2003年24卷第3期页码：305-308
- 作者机构：
  
  1. 吉林大学, 超硬材料国家重点实验室, 吉林大学, 材料科学系, 吉林, 长春, 130023
  2. 延边大学, 理工学院物理系, 吉林, 延吉, 133002
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  教育部和吉林省科学技术委员会基金资助项目()
- DOI：
  中图分类号： O484.5
- 收稿：2002-08-11，
  
  修回：2002-12-23，
  
  纸质出版：2003-05-20
- 稿件说明：
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李俊杰, 王欣, 卞海蛟, 郑伟涛, 吕宪义, 金曾孙, 孙龙. 磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系[J]. 发光学报, 2003,24(3): 305-308

LI Jun-jie, WANG Xin, BIAN Hai-jiao, ZHENG Wei-tao, LU Xian-yi, JIN Zeng-sun, SUN Long. Relations of Substrate Bias and Adhesion, Roughness of Carbon Nitride Films Synthesized by Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2003,24(3): 305-308
李俊杰, 王欣, 卞海蛟, 郑伟涛, 吕宪义, 金曾孙, 孙龙. 磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系[J]. 发光学报, 2003,24(3): 305-308 DOI：

LI Jun-jie, WANG Xin, BIAN Hai-jiao, ZHENG Wei-tao, LU Xian-yi, JIN Zeng-sun, SUN Long. Relations of Substrate Bias and Adhesion, Roughness of Carbon Nitride Films Synthesized by Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2003,24(3): 305-308 DOI：

摘要

对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CN

薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CN

薄膜沉积实验在纯N

的环境下进行

衬底温度(

)保持在350℃

衬底偏压(

)在0～-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CN

薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压

对CN

薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大

在-100V偏压下生长的CN

薄膜表面最光滑(粗糙度最小)

同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CN

薄膜的最佳实验条件。

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磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系

Relations of Substrate Bias and Adhesion, Roughness of Carbon Nitride Films Synthesized by Magnetron Sputtering

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