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射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的发光特性
论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的发光特性

    • Luminescence Properties of ZnO Films Prepared by r. f. Magnetron Sputtering

    • 发光学报   2003年24卷第1期 页码：69-72
    • 中图分类号： O472.3

    • 收稿：2002-07-22，

      修回：2002-11-19，

      纸质出版：2003-01-20

    移动端阅览

  • 王卿璞, 张德恒, 薛忠营, 陈寿花, 马洪磊. 射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的发光特性[J]. 发光学报, 2003,24(1): 69-72 DOI：

    WANG Qing-pu, ZHANG De-heng, XUE Zhong-ying, CHEN Shou-hua, MA Hong-lei. Luminescence Properties of ZnO Films Prepared by r. f. Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2003,24(1): 69-72 DOI：

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相关作者

吕伟
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杨元政

相关机构

沈阳理工大学 理学院
广东工业大学 材料与能源学院
西南交通大学超导研究开发中心 材料先进技术教育部重点实验室
School of Materials Science and Engineering, University of New South Wales
兰州大学物理科学与技术学院
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