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新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究
研究论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究

    • Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide

    • 发光学报   2002年23卷第5期 页码：513-517
    • 中图分类号： TN144.1

    • 收稿：2002-06-20，

      修回：2002-8-15，

      纸质出版：2002-09-20

    移动端阅览

  • 田景全, 姜德龙, 孙秀平, 富丽晨, 但唐仁, 李野, 卢耀华, 端木庆铎. 新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究[J]. 发光学报, 2002,23(5): 513-517 DOI：

    TIAN Jing-quan, JIANG De-long, SUN Xiu-ping, FU Li-chen, DAN Tang-ren, LI Ye, LU Yao-hua, DUANMU Qing-duo. Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2002,23(5): 513-517 DOI：

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长春理工大学, 光电子技术研究所
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