等离子辅助镀膜技术

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等离子辅助镀膜技术

研究论文 | 更新时间：2020-08-11

- 等离子辅助镀膜技术
- Plasma Ion Assisted Deposition for Optical Coating
- 发光学报 2002年23卷第6期页码：623-626
- 作者机构：
  
  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 应用光学国家重点实验室光学技术中心
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  中国科学院创新基金(ZJ00C04T)资助项目()
- DOI：
  中图分类号： TN205
- 收稿：2002-07-19，
  
  修回：2002-9-10，
  
  纸质出版：2002-11-20
- 稿件说明：
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贾克辉, 徐颖, 高劲松, 曹健林. 等离子辅助镀膜技术[J]. 发光学报, 2002,23(6): 623-626

JIA Ke-hui, XU Ying, GAO Jin-song, CAO Jian-lin. Plasma Ion Assisted Deposition for Optical Coating[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2002,23(6): 623-626
贾克辉, 徐颖, 高劲松, 曹健林. 等离子辅助镀膜技术[J]. 发光学报, 2002,23(6): 623-626 DOI：

JIA Ke-hui, XU Ying, GAO Jin-song, CAO Jian-lin. Plasma Ion Assisted Deposition for Optical Coating[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2002,23(6): 623-626 DOI：

传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积

但由于成膜分子的能量较低

使沉积的薄膜排列密度很低

其性能和块状材料区别很大

已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构。薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料

近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题。本文报道了我国自己研制的等离子体源(GIS)的性能指标、用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量

以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。

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