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低束流Nd3+注入硅基薄膜结构及光致发光的研究
论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 低束流Nd3+注入硅基薄膜结构及光致发光的研究

    • Investigation on the Structure and Photoluminescence Properties of Nd Ion Implanted Silicon Film with Low Flux

    • 发光学报   2002年23卷第4期 页码：377-380
    • 中图分类号： O484.31

    • 收稿：2001-09-21，

      修回：2002-4-1，

      纸质出版：2002-07-20

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  • 曾宇昕, 王水凤, 元美玲, 程国安, 肖志松, 徐飞. 低束流Nd<sup>3+</sup>注入硅基薄膜结构及光致发光的研究[J]. 发光学报, 2002,23(4): 377-380 DOI：

    ZENG Yu-xin, WANG Shui-feng, CHENG Guo-an, XIAO Zhi-song, XU Fei, YUAN Mei-ling. Investigation on the Structure and Photoluminescence Properties of Nd Ion Implanted Silicon Film with Low Flux[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2002,23(4): 377-380 DOI：

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