聚合物阵列波导光栅的制作技术

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聚合物阵列波导光栅的制作技术

论文 | 更新时间：2020-08-11

- 聚合物阵列波导光栅的制作技术
- Fabrication Technology of Polymer Arrayed Waveguide Grating
- 发光学报 2006年27卷第3期页码：413-416
- 作者机构：
  
  1. 中国科学院, 研究生院, 北京, 100049
  2. 吉林大学集成光电子国家重点实验室, 吉林, 长春, 130021
  3. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 应用光学国家重点实验室, 吉林, 长春, 130033
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  中科院长春光学精密机械与物理研究所现代光学创新基金(C03Q14Z)();长春市科技计划基金(05GG13)资助项目()
- DOI：
  中图分类号： TN929.1
- 收稿：2005-12-01，
  
  修回：2006-4-23，
  
  纸质出版：2006-05-20
- 稿件说明：
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张国伟, 鄂书林, 邓文渊, 许英朝, 唐晓辉, 张大明. 聚合物阵列波导光栅的制作技术[J]. 发光学报, 2006,27(3): 413-416

ZHANG Guo-wei, E Shu-lin, DENG Wen-yuan, XU Ying-chao, TANG Xiao-hui, ZHANG Da-ming. Fabrication Technology of Polymer Arrayed Waveguide Grating[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2006,27(3): 413-416
张国伟, 鄂书林, 邓文渊, 许英朝, 唐晓辉, 张大明. 聚合物阵列波导光栅的制作技术[J]. 发光学报, 2006,27(3): 413-416 DOI：

ZHANG Guo-wei, E Shu-lin, DENG Wen-yuan, XU Ying-chao, TANG Xiao-hui, ZHANG Da-ming. Fabrication Technology of Polymer Arrayed Waveguide Grating[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2006,27(3): 413-416 DOI：

研究了聚合物阵列波导光栅AWG制作的几个关键技术.首先

为了克服反应离子刻蚀过程中单独使用光刻胶作掩膜而导致的光波导形状和尺寸偏离设计的缺点

采用了光刻胶与金属掩膜相结合的双掩膜技术进行器件制作.详细介绍了双掩膜技术制备聚合物AWG的过程

并得出铝膜作为掩膜的最佳厚度为100nm左右.测试给出了使用和没有使用双掩膜的对比结果

该结果表明使用双掩膜技术制作的波导质量明显好于单独使用光刻胶作掩膜制作的结果.其次

采用蒸气回溶技术来减小反应离子刻蚀产生的波导表面和侧壁的起伏

从而降低了波导的散射损耗.结果表明

蒸气回溶技术使所制作的波导表面的均方根粗糙度从41.307nm降低到24.564nm.

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