沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

樊志琴; 闫书霞; 姚宁; 鲁占灵; 杨仕娥; 马丙现; 张兵临

doi:null

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

研究论文 | 更新时间：2020-08-11

- 沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响
- Effects of Deposition Conditions on Field Emission Properties of Carbon Nanotubes Films
- 发光学报 2006年27卷第1期页码：129-133
- 作者机构：
  
  1. 河南工业大学, 理学院
  2. 郑州大学, 材料物理教育部重点实验室, 河南, 郑州, 450052
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  河南省科技攻关项目资助项目(0324220160)()
- DOI：
  中图分类号： O462.4;O484.4
- 收稿：2004-08-22，
  
  修回：2005-1-14，
  
  纸质出版：2006-01-20
- 稿件说明：
移动端阅览
樊志琴, 闫书霞, 姚宁, 鲁占灵, 杨仕娥, 马丙现, 张兵临. 沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响[J]. 发光学报, 2006,27(1): 129-133

FAN Zhi-qin, YAN Shu-xia, YAO Ning, LU Zhan-ling, YANG Shi-e, MA Bing-xian, ZHANG Bing-lin. Effects of Deposition Conditions on Field Emission Properties of Carbon Nanotubes Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2006,27(1): 129-133
樊志琴, 闫书霞, 姚宁, 鲁占灵, 杨仕娥, 马丙现, 张兵临. 沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响[J]. 发光学报, 2006,27(1): 129-133 DOI：

FAN Zhi-qin, YAN Shu-xia, YAO Ning, LU Zhan-ling, YANG Shi-e, MA Bing-xian, ZHANG Bing-lin. Effects of Deposition Conditions on Field Emission Properties of Carbon Nanotubes Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2006,27(1): 129-133 DOI：

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法

在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征

讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异

保持氢气的流量(100sccm)、生长时间(10min)、反应室压力不变

当甲烷流量为8sccm、温度为700~800℃时

场发射性能最好

开启场强仅为0.8V/μm

发射点分布密集、均匀。

Abstract

关键词

Keywords

references

Zhu Changchun,Liu Xinghui.Advances of carbon nanotubes field emission display[J].Chin.J.Lumin.(发光学报),2005,26(5):557-563 (in Chinese).

Kim J M,Choi W B,Lee N S,et al.Field emission from carbon nanotubes for displays[J].Diamond and Related Materials,2000,9:1184-1189.

Park D,Kim Y H,Lee J K.Synthesis of carbon nanotubes on metallic substrates by a sequential combination of PECVD and thermal CVD[J].Carbon,2003,41:1025-1029.

Yu J,Zhang Q,Ahn J,et al.Field emission from patterned carbon nanotube emitters produced by microwave plasma chemical vapor deposition[J].Diamond and Related Material,2001,10:2157-2160.

Kim M J,Lee T Y,Choi J H,et al.Growth of carbon nanotubes with anodic aluminum oxide formed on the catalytic metal-coated Si substrate[J].Diamond and Related Materials,2003,12:870-873.

Fan Zhiqin,Zhang Binglin,Yao Ning,et al.controlled growth of carbon nanotubes and its field emission properties[J].Chin.Phys.Lett.,2003,20(11):1991-1993.

Fan Zhiqin,Zhang Binglin,Yao Ning,et al.Field emission properties of carbon nanotubes films grown on patterned Ni lines[J].Chin.J.Lumin.(发光学报),2004,25(6):743-747 (in Chinese).

Cao A,Zhang X,Xu C,et al.Thinning and diluting aligned carbon nanotube films for uniform field emission[J].Appl.Phys.A,2002,74:415-418.

Ci L J,Wei B Q,Xu C L,et al.Crystallization behavior of the amorphous carbon nanotubes prepared by the CVD method[J].J.Cryst.Growth,2001,233:823-828.

浏览量

606

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

刻线镍膜上沉积的碳纳米管场发射特性

高质量ZnO及BeZnO薄膜的发光性质

(Cu,Al)掺杂ZnO薄膜表面处缺陷的拉曼光谱研究

聚合物前驱体衍生SiC纳米棒的光学性质

可见光波段激光器线宽压缩技术研究进展