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常压MOCVD生长ZnO/GaN/Al2O3薄膜及其性能
半导体发光、激光和光电性质 | 更新时间：2020-08-11

    • 常压MOCVD生长ZnO/GaN/Al2O3薄膜及其性能

    • ZnO Thin Films Grown on GaN/Al2O3 Templates by Atmospheric Pressure MOCVD

    • 发光学报   2005年26卷第6期 页码：772-776
    • 中图分类号： O472.3;O482.31

    • 收稿：2004-08-22，

      修回：2004-12-22，

      纸质出版：2005-11-20

    移动端阅览

  • 戴江南, 王立, 方文卿, 蒲勇, 莫春兰, 熊传兵, 郑畅达, 刘卫华, 江风益. 常压MOCVD生长ZnO/GaN/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜及其性能[J]. 发光学报, 2005,26(6): 772-776 DOI：

    DAI Jiang-nan, WANG Li, FANG Wen-qing, PU Yong, MO Chun-lan, XIONG Chuan-bing, ZHENG Chang-da, LIU Wei-hua, JIANG Feng-yi. ZnO Thin Films Grown on GaN/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Templates by Atmospheric Pressure MOCVD[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2005,26(6): 772-776 DOI：

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相关作者

王立
莫春兰
熊传兵
蒲勇
陈玉凤
彭绍琴
江风益
戴江南

相关机构

南昌大学材料科学研究所
南昌大学, 教育部发光材料与器件工程研究中心
北京大学 人工微结构和介观物理国家重点实验室宽禁带半导体研究中心
北京大学 物理学院
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 激发态物理重点实验室
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