您当前的位置：
首页 >
文章列表页 >
SiH2Cl2-NH3配比对a-SiNx：H薄膜PL峰的影响
材料合成及性能 | 更新时间：2020-08-11

    • SiH2Cl2-NH3配比对a-SiNx：H薄膜PL峰的影响

    • Photoluminescence Properties of Silicon-rich SiNx Films Deposited from the SiH2Cl2-NH3 Reactant Mixture in LPCVD

    • 发光学报   2005年26卷第4期 页码：502-506
    • 中图分类号： O472.3:O482.31

    • 收稿：2004-08-24，

      修回：2004-12-15，

      纸质出版：2005-07-20

    移动端阅览

  • 王小波, 刘渝珍, 奎热西, 董立军, 陈大鹏. SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>-NH<sub>3</sub>配比对a-SiN<sub>x</sub>：H薄膜PL峰的影响[J]. 发光学报, 2005,26(4): 502-506 DOI：

    WANG Xiao-bo, LIU Yu-zhen, KUI Re-xi, DONG Li-jun, CHEN Da-peng. Photoluminescence Properties of Silicon-rich SiN<sub>x</sub> Films Deposited from the SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>-NH<sub>3</sub> Reactant Mixture in LPCVD[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2005,26(4): 502-506 DOI：

  •  
  •  
icon
试读结束，您可以激活您的VIP账号继续阅读。
去激活 >
icon
试读结束，您可以通过登录账户，到个人中心，购买VIP会员阅读全文。
已是VIP会员？
去登录 >

0

浏览量

152

下载量

0

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

电感耦合等离子体辅助及H2/N2气氛调控对非晶Ga2O3薄膜发光特性的影响
Pr3+对Ce3+掺杂高钆铝硼硅酸盐氟氧玻璃发光性能及能量传递机理
Sr6GdAl（BO3）6∶Dy3+荧光粉的能量传递和发光特性
一步法原位合成Cs2NaInCl6@PVDF薄膜：掺杂调控与光学性能
一种提升LED光输出稳定性的有机-无机锰卤化物及其亮度优化

相关作者

陈淑珍
陆新洲
杨帆
王梓萌
郭颖楠
梁宝来
周成功
陈丹平

相关机构

河北大学 物理科学与技术学院
湖南大学 材料科学与工程学院
中国科学院上海光学精密机械研究所 先进激光与光电功能材料部
稀土新材料技术创新中心， 内蒙古北方稀土新材料技术创新有限公司
长春师范大学 物理学院
0