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退火对ZnO薄膜质量的影响
研究论文 | 更新时间：2020-08-11

    • 退火对ZnO薄膜质量的影响

    • Effects of Anneal on Properties of ZnO Thin Films

    • 发光学报   2005年26卷第4期 页码：535-537
    • 中图分类号： O472.3;O482.1

    • 收稿：2004-08-25，

      修回：2004-12-25，

      纸质出版：2005-07-20

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  • 董鑫, 刘大力, 闫小龙, 张源涛, 杜国同, 高忠民. 退火对ZnO薄膜质量的影响[J]. 发光学报, 2005,26(4): 535-537 DOI：

    DONG Xin, LIU Da-li, YAN Xiao-long, ZHANG Yuan-tao, DU GUO-tong, GAO Zhong-min. Effects of Anneal on Properties of ZnO Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2005,26(4): 535-537 DOI：

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张铁民
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相关机构

中国科学院, 激发态物理重点实验室
中国科学院, 研究生院
南昌大学, 教育部发光材料与器件工程研究中心
南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 激发态物理重点实验室
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