多孔硅的表面碳膜钝化

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

多孔硅的表面碳膜钝化

研究报告 | 更新时间：2020-08-11

- 多孔硅的表面碳膜钝化
- Surface Passivation of Porous Silicon by Carbon Film
- 发光学报 2000年21卷第2期页码：105-108
- 作者机构：
  
  1. 湖南大学电子材料研究所, 湖南, 长沙, 410082
  2. 湖南大学化学化工学院, 湖南, 长沙, 410082
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  湖南省自然科学基金资助项目(98JJY2047)
- DOI：
  中图分类号： O472.1
- 收稿：1999-08-30，
  
  修回：1999-11-29，
  
  纸质出版：2000-05-30
- 稿件说明：
移动端阅览
李宏建, 彭景翠, 颜永红, 瞿述, 向建南. 多孔硅的表面碳膜钝化[J]. 发光学报, 2000,21(2): 105-108

LI Hong-jian, PENG Jing-cui, YAN Yonghong, QU Shu, XIANG Jian-nan. Surface Passivation of Porous Silicon by Carbon Film[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2000,21(2): 105-108
李宏建, 彭景翠, 颜永红, 瞿述, 向建南. 多孔硅的表面碳膜钝化[J]. 发光学报, 2000,21(2): 105-108 DOI：

LI Hong-jian, PENG Jing-cui, YAN Yonghong, QU Shu, XIANG Jian-nan. Surface Passivation of Porous Silicon by Carbon Film[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2000,21(2): 105-108 DOI：

报道对多孔硅(PS)进行碳膜(CF)钝化处理的结果。红外吸收光谱表明

经钝化处理样品的表面由Si—C、Si—N和Si—O键所覆盖;荧光光谱表明

经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提高4～4.5倍

且发光峰位明显蓝移;存放实验显示

经钝化处理的样品发光强度稳定、发光峰位不变。这些结果表明

正丁胺可以在多孔硅表面形成优良的钝化碳膜

是一种十分有效的多孔硅后处理途径。

浏览量

318

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

Mn4+掺杂氟化物红色发光粒子的表面钝化和白色发光二极管应用

碳点的功能化研究进展

镱钠共掺氟化钙锶混晶近红外光谱与激光参数

钙钛矿太阳能电池中钝化层对缺陷复合行为的影响

基于荧光分析法和APTLD相结合的多环芳烃的检测

相关机构

光能转换材料湖南省高校重点实验室

湖南师范大学化学化工学院

太原科技大学应用科学学院

福建师范大学物理与能源学院福建省量子调控与新能源材料重点实验室

山西医科大学口腔医学院

AI问答

⁰