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射频磁控溅射CaS：TmF3薄膜的电致发光及其激发过程的研究
稀土发光材料 | 更新时间：2020-08-11

    • 射频磁控溅射CaS：TmF3薄膜的电致发光及其激发过程的研究

    • STUDY OF THE ELECTROLUMINESCENCE AND EXCITATION PROCESS OF CaS：TmF3 FILM PREPARED BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING

    • 发光学报   1998年19卷第1期 页码：31-35

    • 收稿：1997-03-24，

      纸质出版：1998-02-28

    移动端阅览

  • 孙甲明, 钟国柱, 范希武, 郑陈玮. 射频磁控溅射CaS：TmF<sub>3</sub>薄膜的电致发光及其激发过程的研究[J]. 发光学报, 1998,19(1): 31-35 DOI：

    Sun Jiaming, Zhong Guozhu, Fan Xiwu, Zheng Chenwei. STUDY OF THE ELECTROLUMINESCENCE AND EXCITATION PROCESS OF CaS：TmF<sub>3</sub> FILM PREPARED BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 31-35 DOI：

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相关作者

何 桢
高 华
王申伟
衣立新
胡 峰
杨坚
吴宏滨
侯琼

相关机构

北京交通大学 光电子技术研究所发光与光信息技术教育部重点实验室
华南理工大学, 高分子电致发光材料与器件研究所
中山大学, 光电材料与技术国家重点实验室
中山大学, 化工学院化学系
广东省显示材料与技术重点实验室
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