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北京科技大学材料物理系
收稿:1997-05-19,
纸质出版:1998-02-28
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刘健, 王佩璇. 中子辐照GaAs快速退火行为的低温光荧光研究[J]. 发光学报, 1998,19(1): 50-55
Liu Jian, Wang Peixuan. PHOTOLUMINESCENCE OF DEFECTS IN NEUTRON IRRADIATED SI-GaAs[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 50-55
刘健, 王佩璇. 中子辐照GaAs快速退火行为的低温光荧光研究[J]. 发光学报, 1998,19(1): 50-55 DOI:
Liu Jian, Wang Peixuan. PHOTOLUMINESCENCE OF DEFECTS IN NEUTRON IRRADIATED SI-GaAs[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 50-55 DOI:
用低温(10K)光荧光(PL)的方法对中子辐照砷化镓中的缺陷及嬗变掺杂进行了研究.结果表明:低温PL实验可观察到中子嬗变掺杂效应
嬗变掺杂使近导带施主增加从而使与C
As
有关的跃迁峰向低能移动.辐照剂量较低时
嬗变原子Ge占居Ga位;当辐照剂量较大时
部分嬗变原子Ge占居As位.在高剂量(10
17
n/cm
2
)辐照情况下
经800℃(20秒)退火
仍有反位缺陷Ca
(EV+200meV)和复合缺陷I
Ga
-V
存在
在低剂量(10
14
~10
16
经此退火过程
未观察到这两种缺陷的PL峰.
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