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利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统
研究快报 | 更新时间：2020-08-11

    • 利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统

    • UV EXPOSURE EQUIPMENT OF FABRICATING FIBER GRATING BY A PHASE MASK

    • 发光学报   1996年17卷第3期 页码：266-268

    • 收稿：1996-02-29，

      纸质出版：1996-08-30

    移动端阅览

  • 李燕, 梁国栋, 徐迈, 王庆亚, 孙英志, 张建, 张玉书. 利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统[J]. 发光学报, 1996,17(3): 266-268 DOI：

    Li Yan, Liang Guodong, Xu Mai, Wang Qingya, Sun Yingzhi, Zhang Jian, Zhang Yushu. UV EXPOSURE EQUIPMENT OF FABRICATING FIBER GRATING BY A PHASE MASK[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1996,17(3): 266-268 DOI：

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