Este artículo reporta una serie de vidrios base AlF₃ con bajo contenido de hidroxilo dopados con iones Er³⁺ en alta concentración (AlF₃-YF₃-CaF₂-BaF₂-SrF₂-MgF₂-ErF₃), y estudia sistemáticamente su rendimiento de emisión en la banda de 2.7 μm. Mediante la optimización de la composición del vidrio y su fabricación mediante fusión a alta temperatura, se logró una concentración ultra baja de hidroxilo en el vidrio (coeficiente de absorción OH^- de 0.031 cm^-1) y una alta concentración de iones Er³⁺ (hasta un 12 mol%). En comparación con los vidrios base AlF₃ ya reportados, este vidrio presenta una excelente estabilidad térmica (temperatura de transición vítrea T_g=433℃, parámetro de estabilidad térmica ΔT=89℃) y estabilidad química. Al usar bombeo láser de 980 nm, la intensidad de emisión a 2.7 μm en el vidrio base AlF₃ de bajo hidroxilo y alta concentración de iones Er³⁺ mejora significativamente, con una sección eficaz de emisión de hasta 5.28×10^-21 cm² y una gran relación de ramificación (20.69%), favoreciendo la reducción del umbral láser y aumento de la eficiencia de pendiente, mientras que la vida media medida de la transición ⁴I_11/2→⁴I_13/2 es de 7.651 ms. Estas propiedades indican el potencial importante de aplicación del vidrio base AlF₃ de bajo hidroxilo y alta concentración de iones Er³⁺ en láseres sólidos y de fibra en la banda de 2.7 μm.

Vidrio fluoroaluminato; dopaje Er³⁺; emisión 2.7 μm