Los perovskitas cuasi bidimensionales, con sus excelentes propiedades optoelectrónicas, alta eficiencia de emisión y características de procesamiento en solución, se han convertido en materiales ideales para la próxima generación de pantallas de alta resolución. Sin embargo, en sus aplicaciones en pantallas de alta resolución, las técnicas tradicionales de patrón dificultan equilibrar alta resolución, alta fidelidad y calidad de la película de perovskita. La tecnología de impresión tiene resolución limitada y es propensa al efecto "anillo de café"; la fotolitografía presenta riesgos de daño por luz y procesos complejos; la escritura láser directa es costosa y con bajo aprovechamiento de material. Por ello, proponemos una estrategia de patrón de alta resolución basada en nanoimpresión térmica e inducción de cristalización mediante plantillas hidrofílicas/hidrofóbicas. Mediante modificación de superficie por plasma se construyó una película de polimetilmetacrilato (PMMA) con estructura de panal y contraste de humectación, utilizando un gradiente de energía de interfaz para conducir el crecimiento localizado selectivo de la solución precursora de perovskita en zonas hidrofílicas preestablecidas, logrando una micromatriz de perovskita con bordes claros y densa y uniforme. Los diodos emisores de luz perovskita (PeLED) así preparados muestran un pico de emisión a 527 nm, una eficiencia cuántica externa máxima (EQE) del 7,24% y un brillo máximo de 9474 cd·m⁻². Este trabajo proporciona una solución de patrón que combina alta resolución, proceso sencillo y excelente calidad de película para la fabricación de dispositivos microdisplay de perovskita de alto rendimiento.

Perovskita;crecimiento in situ;alta resolución;patronización;control de cristalización