Los diodos emisores de luz de puntos cuánticos (QLEDs) tienen ventajas como alta pureza de color, amplio rango de colores y compatibilidad con procesos en solución, y se consideran una dirección importante para el desarrollo de tecnologías de visualización de alta resolución de próxima generación. Sin embargo, lograr un patrón de alta resolución sin perjudicar el rendimiento óptico de los puntos cuánticos (QDs) sigue siendo un cuello de botella técnico clave para su aplicación práctica. En este artículo, proponemos un nuevo proceso de patrón basado en nanoimpresión y transferencia controlada térmicamente para abordar los desafíos de patrón en la fabricación de QLEDs de alta resolución. Este método utiliza un molde de silicio para imprimir una microestructura en forma de panal en la superficie de poli(vinil butiral) (PVB) y controla la mojabilidad de la solución para el llenado selectivo de los puntos cuánticos, seguido por un proceso de transferencia controlada térmicamente que permite fabricar matrices de puntos cuánticos de alta uniformidad con tamaño característico tan bajo como 1.5 µm y resolución de 9,072 píxeles por pulgada (PPI). Mediante el uso de moldes con mayor resolución, también logramos matrices de puntos cuánticos con una densidad máxima de píxeles de 25,400 PPI. Además, preparando matrices de puntos cuánticos sobre la capa de transporte de huecos (HTL), logramos fabricar dispositivos QLEDs rojos de alta resolución (9,072 PPI) con una eficiencia cuántica externa máxima (EQE) del 10.91% y un brillo máximo de 164,421 cd/m². Este trabajo proporciona una nueva vía de patrón estable y repetible para la fabricación de QLEDs de alta resolución.

Diodos emisores de luz de puntos cuánticos (QLEDs); alta resolución; nanoimpresión; transferencia controlada térmicamente