El láser de picosegundo tiene características como una alta energía de pulso, alta densidad de potencia y bajo efecto térmico, lo que le confiere un excelente rendimiento en microfabricación, corte de precisión y es ampliamente utilizado en áreas como procesamiento láser, aeroespacial, biomedicina, etc. La tecnología de ajuste pasivo Q mediante el ajuste del factor Q de la cavidad resonante se ha convertido en uno de los métodos importantes para generar láseres de picosegundo. Este artículo revisa la aplicación de la tecnología de ajuste pasivo Q en la obtención de pulsos de picosegundo, centrándose en el uso de la microestructura, SESAM (espejos saturables absorbentes de semiconductores) como material absorbente saturable y la tecnología de cristal de unión triple para acortar la longitud de la cavidad y, por lo tanto, obtener pulsos de picosegundo y mejorar otros aspectos en la obtención de pulsos de picosegundo. Resume los avances significativos de la tecnología de ajuste pasivo Q a 1064 nm en el campo de los láseres de picosegundo en los últimos años y prevé el desarrollo y aplicación de láseres de picosegundo de ajuste pasivo Q.

Láser de picosegundo; Tecnología de ajuste pasivo Q; Láser de chips; SESAM; Cristales de unión triple