Se estudió la aplicación de la técnica de deposición de capas atómicas (ALD) en el recubrimiento y modificación superficial del fósforo rojo K₂SiF₆∶Mn⁴⁺ (KSFM) para LED de luz blanca, así como su efecto en las características estructurales, el rendimiento de luminiscencia y la estabilidad en ambientes de humedad y calor. Los resultados muestran que el uso de ALD con trimetilaluminio como precursor y ozono como oxidante puede formar una capa de recubrimiento de óxido de aluminio en la superficie del KSFM. El análisis de difracción de rayos X y morfología superficial indica que el proceso ALD no afecta la fase cristalina ni las características morfológicas del fósforo KSFM. El análisis del espectro de emisión luminosa muestra que la pasivación por óxido de aluminio también mejora la intensidad de la luminiscencia del KSFM sin cambiar su longitud de onda de emisión. En comparación con el fósforo KSFM sin recubrimiento, la capa de recubrimiento mejora significativamente la estabilidad del polvo KSFM en condiciones de humedad y calor; después de 24 horas de envejecimiento en un ambiente con 85% de humedad y a 85 ℃, la intensidad relativa de emisión del muestra recubierta con ALD aún mantiene el 84% del valor inicial.

K₂SiF₆∶Mn⁴⁺; fósforo rojo; modificación superficial; deposición de capas atómicas; estabilidad humedad-calor