В статье представлен ряд стекол на основе AlF₃ с низким содержанием гидроксильных групп, легированных ионами Er³⁺, и проведено систематическое исследование их эмиссионных свойств в диапазоне 2,7 мкм. Оптимизируя состав стекла и используя метод высокотемпературного плавления, удалось достичь сверхнизкой концентрации гидроксильных групп (коэффициент поглощения OH^- равен 0,031 см^-1) и высокой концентрации ионов Er³⁺ (до 12 моль%). По сравнению с ранее опубликованными стеклами на основе AlF₃, данное стекло обладает превосходной термической стабильностью (температура стеклования T_g = 433℃, параметр термической стабильности ΔT = 89℃) и химической стойкостью. При накачке лазером с длиной волны 980 нм значительно увеличивается интенсивность излучения при 2,7 мкм в стекле на основе AlF₃ с низким содержанием гидроксильных групп и высокой концентрацией Er³⁺. Эмиссионное сечение достигает 5,28×10^-21 см² с высоким коэффициентом ветвления (20,69%), что способствует снижению порога лазера и повышению коэффициента наклона, при этом измеренное время жизни перехода ⁴I_11/2→⁴I_13/2 составляет 7,651 мс. Указанные свойства указывают на важный потенциал применения стекол на основе AlF₃ с низким содержанием гидроксильных групп и высокой концентрацией Er³⁺ в твердо-тельных и волоконных лазерах в диапазоне 2,7 мкм.

Флюороалюминатное стекло; легирование Er³⁺; эмиссия 2,7 мкм