Сообщается о серии фторидных стекол на основе AlF₃ (AlF₃-YF₃-CaF₂-BaF₂-SrF₂-MgF₂-ErF₃), легированных ионами Er³⁺ с низким содержанием гидроксильных групп, а также систематическом исследовании их эмиссионных характеристик в области 2.7 мкм. Оптимизируя состав стекла и применяя метод высокотемпературного плавления, удалось добиться сверхнизкой концентрации гидроксил-ионов (коэффициент поглощения OH^- составляет 0.031 см^-1) и высокой концентрации ионов Er³⁺ (мольная доля до 12%). По сравнению с ранее известными стеклами на основе AlF₃ это стекло обладает превосходной термической стабильностью (температура стеклования T_g=433 ℃, параметр термической стабильности ΔT=89 ℃) и химической стабильностью. При накачке лазером с длиной волны 980 нм интенсивность излучения 2.7 мкм в этом стекле с низким содержанием гидроксильных групп и высокой концентрацией Er³⁺ значительно увеличивается, с эффективным сечением излучения до 5.28×10^-21 см² и большим коэффициентом ветвления (20.69%). Большое эффективное сечение излучения способствует снижению порога лазера и повышению коэффициента наклона, при этом измеренное время жизни перехода ⁴I_11/2→ ⁴I_13/2 составляет 7.651 мс. Эти характеристики показывают, что стекло на основе AlF₃ с высоким содержанием Er³⁺ и низким содержанием гидроксильных групп имеет важный потенциал для применения в твердо-тельных лазерах и волоконных лазерах в диапазоне 2.7 мкм.

фтороалюминатное стекло;легирование Er³⁺;излучение 2.7 мкм