В статье представлен ряд стекол на основе AlF3 с низким содержанием гидроксильных групп и высоким содержанием ионов эрбия (Er3+) (AlF3-YF3-CaF2-BaF2-SrF2-MgF2-ErF3), а также систематическое исследование их излучательных свойств в диапазоне 2,7 мкм. Оптимизировав состав стекла и изготовив его методом высокотемпературного плавления, удалось достичь сверхнизкой концентрации гидроксильных групп (коэффициент поглощения OH- 0,031 см-1) и высокой концентрации ионов Er3+ (до 12 моль%). По сравнению с ранее описанными стеклами на основе AlF3 это стекло обладает выдающейся термической стабильностью (температура перехода стекла Tg=433℃, параметр термической стабильности ΔT=89℃) и химической стабильностью. При накачке лазером с длиной волны 980 нм интенсивность излучения при 2,7 мкм значительно повысилась в стекле с низким содержанием гидроксильных групп и высокой концентрацией Er3+, площадь сечения излучения достигла 5,28×10-21 см2, с высоким коэффициентом разветвления (20,69%). Большое сечение излучения способствует снижению порога лазера и повышению эффективности наклона, при этом время жизни перехода 4I11/2→4I13/2 составляет 7,651 мс. Эти характеристики указывают на значительный потенциал стекол на основе AlF3 с низким содержанием гидроксильных групп и высоким содержанием Er3+ для применения в твердотельных и волоконных лазерах в диапазоне 2,7 мкм.